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Avaliacao Eletroquimica do Efeito da Adicao de Nanoparticulas no Polimento Quimico da Liga AA6062T5.

1. INTRODUCAO

Neste trabalho foi preparado um banho quimico para tratamento da superficie da liga de aluminio da serie 6xxx tal que podera ser aplicado tambem a outras ligas de aluminio pelo simples controle das variaveis correspondentes as condicoes de tratamento: temperatura e tempo. Varios ensaios estao em progresso em nossos laboratorios e mostram a viabilidade do banho aqui descrito para aplicacao a outras ligas de aluminio [1-3].

As ligas de aluminio da serie 6xxx tem vasta aplicacao na construcao civil, industria automotiva e aeronautica [4] devido a facilidade de serem tratadas termicamente resultando em excelente resistencia mecanica, facilidade de uniao e solda, de adquirir diferentes conformacoes e aparencia atrativa apos anodizacao e pintura. Essas ligas contem magnesio e silicio na proporcao 2:1, elementos majoritarios depois do Al e formam precipitados de [Mg.sub.2]Si, cuja formacao e distribuicao, e adicao de elementos secundarios produzem, apos os processos de solubilizacao, tratamento termico e solidificacao, uma quantidade de compostos intermetalicos e fases que influem significativamente nas propriedades da liga [3]. Nas ligas de aluminio da serie 6xxx podem ser encontradas varias fases como CuAF, [Mg.sub.2]Si, CuMgA[l.sub.2], assim como [beta]-A[1.sub.5]FeSi ou [alpha]-[Al.sub.12]FeSi e com adicao de elementos como Mn, Cr, Mo que podem ser sucedaneos do Fe e estabilizar a formacao das fases a-[Al.sub.12][(FeMn).sub.3]Si ou [alpha]-[Al.sub.12][(FeMn).sub.3]Si [5, 6].

Um dos campos mais ativos de pesquisa no dominio da preparacao de superficies de aluminio e centrado no desenvolvimento de metodos novos e eficazes de pre-tratamento com especial atencao a protecao e nao contaminacao do meio ambiente. Os tratamentos sao classificados em mecanicos, eletroliticos e quimicos sendo os dois primeiros, tradicionalmente mais eficazes [3, 7]. Os processos mecanicos requerem equipamentos de alto custo, produzem incrustacoes de particulas, residuos em po na superficie da liga, e em alguns casos como no jateamento podem ser danosos a saude do operador.

Ja o processo eletrolitico demanda alto consumo de energia eletrica e a instalacao da planta industrial e muito complexa [7, 8], enquanto a planta para os tratamentos quimicos e menos dispendiosa e nao necessita de corrente eletrica. O tratamento quimico mais utilizado industrialmente usa solucao de hidroxido de sodio [7, 8] para atacar a superficie da liga ou do aluminio, porem, para clarear e tornar a superficie mais uniforme se adiciona aditivos ao banho como fluoretos e complexantes que agridem o ambiente e oneram o processo de tratamento de efluentes. Os efeitos desses tratamentos algumas vezes forneceram resultados contraditorios: Olfield [8] relatou que a susceptibilidade a corrosao localizada e aumentada pelo aumento do grau de polimento enquanto Verner & Weiland [9] tem reportado resultados na direcao oposta. O mecanismo de corrosao do aluminio em solucao alcalina se inicia com a dissolucao do filme passivo, transferencia de carga na superficie do eletrodo, formacao de produtos de corrosao e geracao de hidrogenio [10].

Em funcao dos inconvenientes mencionados para os tratamentos mecanicos e eletroliticos e das incertezas quanto ao tratamento quimico a base de hidroxido de sodio com aditivos como fluoretos e complexantes, alternativas mais eficazes devem ser desenvolvidas. Esta necessidade promoveu novas abordagens em que os investigadores tentam associar diferentes procedimentos de melhoramento de superficies sem perder a eficiencia contra a corrosao. Huang et al. [11] estudaram dois processos de anodizacao das ligas de aluminio em meio de NaCl, cujos resultados indicaram uma superficie eficiente contra a corrosao se comparada ao aluminio sem tratamento quimico. Outro metodo e o polimento quimico-mecanico que envolve simultaneamente uma reacao quimica e abrasao mecanica [12], em que uma pasta e preparada a base de acido fosforico contendo alumina como agente abrasivo e uma substancia oxidante, geralmente [H.sub.2][O.sub.2], KMn[O.sub.4], KI[O.sub.3], [K.sub.3]Fe[(CN).sub.6] ou [K.sub.2][Cr.sub.2][O.sub.7]. Porem, o custo desse tratamento e muito elevado e inviabiliza seu uso em um ambiente industrial, sendo utilizado apenas em polimentos mais nobres.

Com base nos resultados de pre-tratamentos alcalinos, que sao alguns dos mais promissores substitutos para os polimentos mecanicos e eletroliticos, foi formulado um banho e adicionado nanoparticulas de silica que atuaram como abrasivo durante o polimento quimico e permitiram obter uma superficie mais homogenea. Esse banho nao tem o inconveniente da adicao de aditivos nocivos ao meio ambiente, utiliza reagentes de baixo custo, resultando numa planta de tratamento quimico mais economico.

2. MATERIAIS E METODOS

Preparacao da Superficie

O substrato da liga de aluminio AA6062T5 (3 cm x 2 cm x 0.3 cm) foi lavado em acetona por 120 segundos a 25[degrees]C e posteriormente seco ao ar (nomeada de amostra B). Todos os produtos quimicos foram utilizados sem qualquer purificacao previa e sao encontrados comercialmente: hidroxido de sodio (Qhemis [R]), cloreto de sodio (Sigma Aldrich[R]), sulfato de sodio (Qhemis[R]) e acido nitrico (Nuclear[R]), nanoparticulas de Si[O.sub.2] (CAB-O-SIL TS-610). A solucao de ataque alcalino consistiu em uma mistura de duas ou mais solucoes de NaOH 1 mol [L.sup.-1], NaCl 3 mol [L.sup.-1] e [Na.sub.2]S[O.sub.4] 0,5 mol [L.sup.-1] (Tabela 1). Essa solucao foi deixada reagir com a superficie da liga de aluminio por 30 minutos com agitacao e a 25 [degrees]C, e, em seguida, lavada com agua destilada. Na sequencia, em outro recipiente, a amostra da liga de aluminio era imersa em uma solucao de HN[O.sub.3] 3,2 mol [L.sup.-1] por 1 minuto, lavada com agua destilada e seca a temperatura ambiente.

Adicao de Nanoparticulas de SI[O.sub.2]

A segunda fase do estudo foi realizada a partir da melhor condicao obtida na primeira parte do trabalho (B8). Foram adicionadas ao polimento quimico (B8), 500, 1000 ou 5000 ppm de nanoparticulas de silica, e as amostras correspondentes foram denominadas B9, B10 e B11, respectivamente.

As condicoes e nomenclatura das amostras sao apresentadas na Tabela 2.

Tecnicas Eletroquimicas

A resistencia a corrosao da liga de aluminio foi avaliada por meio de medidas eletroquimicas a 25[degrees]C em solucao aquosa contendo NaCl 0,1 mol [L.sup.-1]. Todos os ensaios foram realizados em uma celula vertical com capacidade de 70 mL de eletrolito. Como eletrodo de referencia foi utilizado o eletrodo de [mathematical expression not reproducible], disposto em um compartimento de vidro cuja extremidade inferior terminava em forma de capilar de Luggin colocado proximo a superficie do eletrodo de trabalho [13]. Como eletrodo auxiliar foi utilizado uma rede de platina e como eletrodo de trabalho uma amostra da liga de Al tratada em uma das solucoes de polimento, expondo 1 [cm.sup.2] de area a solucao de NaCl 0,1 mol [L.sup.-1]. As medidas de potencial em circuito aberto (Eca), espectroscopia de impedancia eletroquimica (HIE) e polarizacao potenciodinamica foram realizadas utilizando um potenciostato-galvanostato AUTOLAB, PGSTAT302N equipado com modulo de impedancia. As medicoes de EIE foram realizadas apos 1 h de imersao, aplicando um sinal senoidal de perturbacao (25 mV rms) sobre Eca, varrendo de 5 x [10.sup.4] a 1 x [10.sup.-2] Hz com 10 pontos por decada frequencia.

Analise de Superficie

As imagens de microscopia optica (MO) foram adquiridas utilizando um microscopio optico Pantec controlado por um computador. As imagens foram adquiridas antes e apos cada polimento quimico.

3. RESULTADOS E DISCUSSAO

Espectroscopia de Impedancia Eletroquimica (EIE)

Tratamento Quimico

A Figura 1 mostra os diagramas de impedancia no plano complexo das amostras da liga de aluminio sem nenhum polimento quimico (amostra B, Fig. 1A) e apos os 8 polimentos propostos (Fig. 1B-1I).

No diagrama de impedancia no plano complexo da amostra sem tratamento (Figura 1A), na primeira hora de imersao, observam-se 2 arcos capacitivos: o primeiro arco capacitivo com diametro de aproximadamente 69 k[ohm] [cm.sup.2] quando projetado o ultimo ponto no eixo x e o segundo arco capacitivo e um semicirculo de [Z.sub.real] = 177 k[ohm] [cm.sup.2] na frequencia de 0,1 Hz. Apos 48 horas de imersao observa-se que a segunda constante de tempo apresenta Zreal de, aproximadamente, 222 k[ohm] [cm.sup.2]. Com o aumento do tempo de imersao os dois arcos capacitivos se sobrepoem. O primeiro arco capacitivo pode ser atribuido a camada passiva de oxido de aluminio e / ou a uma camada de oxido formada espontaneamente ao ar. Na presenca de cloreto, essa camada vai sendo modificada para se formar uma camada de sal. O segundo arco capacitivo e associado aos processos interfaciais como a reacao de transferencia de carga e capacitancia da dupla camada eletrica.

A camada protetiva de oxido de aluminio e alterada pela presenca de ions cloreto como ocorre nos ambientes marinhos devido ao fenomeno de corrosao por pites [14, 15]. O pH da solucao tambem influi bastante nos produtos formados na oxidacao do aluminio ou dos intermetalicos presentes na liga de Al, podendo formar oxidos de Al hidratados, ou hidroxido-complexos soluveis [16], ou quando pites sao formados pode ser gerada uma segunda camada de um sal [17]. A permeabilidade dessa camada de sal e a porosidade do filme de oxido sao responsaveis por determinar a velocidade de corrosao [18].

A corrosao do aluminio ou de suas ligas na presenca de cloreto inicia pela adsorcao quimica de cloreto na superficie do oxido que age como reagente que facilita a dissolucao via formacao de complexos de oxicloreto de aluminio [19]. Mais recentemente, a teoria das filas inclui a penetracao do cloreto ate o interior do filme e sua reacao com o metal [20]. Os processos interfaciais globais de transferencia de carga envolvendo oxidacao do aluminio resultam na formacao da especie [A1.sup.3+]:

A1 [right arrow] [A1.sup.3+] + 3[e.sup.-] (1)

Essa reacao na presenca de um filme fino de oxido de aluminio pode ocorrer na interface metal/filme atraves da migracao por efeito de campo eletrico (A1 [right arrow][A1.sup.+] + [e.sup.-]) e na interface filme/solucao ([A1.sup.+] [right arrow][A1.sup.3+] + 2[e.sup.-]) [21]. A preferencia de dissolucao dos oxidos ocorre nos defeitos do filme de oxido, na diferenca de espessura do filme ou ao redor dos intermetalicos, especialmente aqueles que atuam como catodo favorecendo, neste caso, a reacao de reducao do oxigenio. Na base dos pites Al[Cl.sub.3] pode ser formado, e, este reage com outro ion cloreto para formar o anion complexo Al[Cl.sup.-.sub.4] que se difunde para fora do pite. O ingresso de agua atraves do filme de sal pode cessar a corrosao por pite, dependendo da concentracao de cloreto no meio [22]. As principais reacoes catodicas, dependendo do pH do meio, envolvem a reducao de oxigenio (eq. 2). Reacoes quimicas tambem podem ocorrer como a formacao de oxidos (eq. 3), de aluminato (eq. 4) e tetracloroaluminato (eq. 5)

[O.sub.2] + [4H.sup.+] + 4[e.sup.-] [right arrow] 2[H.sub.2]O (2a) meio acido

[O.sub.2] + 2[H.sub.2]O + 4[e.sup.-] [right arrow] 4O[H.sup.-] (2b) meio alcalino

2[A1.sup.3+] +6[H.sub.2]O[right arrow]2Al[(OH).sub.3]+[6H.sup.+][right arrow][A1.sub.2][O.sub.3].3[H.sub.2]O (3a)

[A1.sup.3+] + 3O[H.sup.-] [right arrow]1/2[Al.sub.2][O.sub.3].3[H.sub.2]O (3b)

A1[(OH).sub.3] + O[H.sup.-] [right arrow] A1[(OH).sup.-.sub.4] (4)

A1[Cl.sub.3] + [Cl.sup.-] [right arrow] A1[Cl.sup.-.sub.4] (5)

Os diagramas de Nyquist das amostras B1 e B2 (Figura 1B e 1C) mostram arcos capacitivos menores do que a liga de aluminio sem tratamento (B) quimico, o que pode ser atribuido a exposicao da amostra ao meio de NaOH, que remove a camada de oxido natural de alta resistencia [7]. O aumento do modulo de impedancia e dos arcos capacitivos apos o polimento B2, em relacao ao tratamento B1, e devido ao uso do banho de HN[O.sub.3] que serve para clarificar a superficie e remover as particulas finas de oxidos de aluminio formados durante o tratamento quimico com a solucao salina e melhora o filme de oxido devido a acao oxidante do acido nitrico [23, 24]. A solucao de acido nitrico tambem aumenta a refletancia do metal [25, 26]. Os digramas de impedancia das amostras B3 e B4 (Figura 1D e 1E) mostram arcos capacitivos de 79 k[ohm] [cm.sup.2] e 50 k[ohm] [cm.sup.2], respectivamente. A diminuicao no valor de [Z.sub.real] em relacao as amostras B1 e B2 (Fig. 1B e 1C) foi atribuido a exposicao das amostras B3 e B4 ao meio contendo NaOH, que dissolve o filme de oxido natural [25] e o [Na.sub.2]S[O.sub.4] que pode repassivar a superficie [27]. Nos diagramas de Nyquist para as amostras B5 e B6 (Fig. 1F e 1G) obtem-se valores de [Z.sub.real] de 105 k[ohm] [cm.sup.2] e 20 k[ohm] [cm.sup.2] apos 48 horas de imersao em NaCl, na frequencia de 100 mHz. A diminuicao do arco capacitivo em relacao a amostra sem tratamento quimico pode ser atribuida a exposicao da liga aos ions [Cl.sup.-] e S[O.sub.4.sup.2-]; ambos sao responsaveis pela formacao de pites expondo sempre uma area superficial nova [27, 28]. Para as amostras que foram submetidas ao polimento quimico com o banho alcalino-salino completo, verificou-se que a amostra B7 (Figura 1H) mostrou dispersao em baixa frequencia, devido a formacao de pites e ativacao da superficie. Os diagramas de Nyquist, (Figura 1A, 1H e 1I) mostraram o aumento do diametro do arco capacitivo na ordem: B8 > B7 > B, alem de possuir aspecto de anodizado fosco. Isso pode ser atribuido a formacao de uma camada de oxido que favorece o efeito barreira e melhora a aparencia superficial do metal.

Adicao de Nanoparticulas

Devido a baixa protecao contra corrosao do tratamento B8, foi proposta a adicao de nanoparticulas durante o polimento quimico para aumentar a resistencia contra a corrosao da superficie. Apos a adicao gradativa de nanoparticulas de Si[O.sub.2] ao polimento quimico B8, o sistema foi monitorado por 1, 24, 48, 72, 96, 120, 144, 168 e 240 horas de imersao em solucao de NaCl 0,1 mol [L.sup.-1].

Para a amostra que foi submetida ao pretratamento quimico com adicao de 500 mg [L.sup.-1] de nanoparticulas de Si[O.sub.2], observa-se no diagrama de Nyquist (Figura 2A) um aumento gradativo do arco capacitivo com o aumento do tempo de imersao. O diagrama de Bode angulo de fase mostra um aumento do carater capacitivo (Figura 2B), no qual o angulo de fase para a amostra B9 diminuiu de -[77.sup.o] na primeira hora para -[82.sup.o] em 240 horas. O valor de modulo de impedancia [absolute value of (Z)] em 15 mHz foi igual a 110 k[ohm] [cm.sup.2], que indica a formacao de produtos de corrosao com carater mais resistivo.

Apos o pre-tratamento quimico com adicao de 1000 mg [L.sup.-1] de nanoparticulas de silica (B10, Figura 3) observam-se duas constantes de tempo, uma em alta frequencia e outra menos proeminente em baixa frequencia. Os diagramas de Nyquist (Figura 3A) mostraram um arco capacitivo bem definido em alta frequencia e um segundo arco em frequencias menores, inicialmente com caracteristica de difusao, que assumiu carater mais capacitivo com o tempo de imersao. Apos 240 horas de imersao, o diagrama de Nyquist apresentou valores de [Z.sub.real] mais altos do que as amostras B7 e B8, que foram obtidas sem adicao de nanoparticulas no polimento quimico, porem, a amostra B10 apresentou tambem melhor aparencia estetica apos o tratamento. A primeira constante de tempo foi atribuida a formacao do oxido e a segunda a processos interfaciais. Ja o diagrama de Bode angulo de fase (Figura 3B) apresentou duas constantes de tempo bem definidas na primeira hora de imersao e um alargamento do angulo de fase apos 24 horas de imersao, indicando a sobreposicao de duas constantes de tempo.

No diagrama de Nyquist (Figura 4A, tratamento B11) com uma hora de imersao em solucao de NaCl 0,1 mol [L.sup.-1] foi observado a presenca de um arco capacitivo com valor de [Z.sub.real] de aproximadamente 80 k[ohm] [cm.sup.2] na frequencia de 19 Hz. Apos 240 horas de imersao em NaCl, a amostra B11 apresentou menor valor de [Z.sub.real] que as amostras B7 e B8. Na Figura 4B, o diagrama de Bode-angulo de fase mostrou apenas uma constante de tempo em 1 h de imersao e duas constantes de tempo em tempos mais longos. O diagrama de Bode-modulo de impedancia (Figura 4C) diminuiu ligeiramente com o tempo de imersao. A superficie da amostra submetida a esse tratamento nao mostrou melhora na aparencia, o que foi atribuido a incorporacao de grande numero de nanoparticulas na superficie das amostras

O tratamento B10 forneceu amostras que apresentaram melhores resultados contra corrosao entre todos os procedimentos de polimento quimico utilizados neste trabalho, provavelmente como consequencia da insercao moderada de nanoparticulas na superficie da liga de aluminio durante o polimento quimico.

Analise da Superficie

A Figura 5 mostra fotos da superficie das amostras antes e apos os tratamentos quimicos B a B8. Ja na Figura 6 sao mostradas as micrografias opticas com magnificacao de 400x das amostras antes e apos os tratamentos quimicos, podendo ser observadas as modificacoes da superficie em cada tratamento.

Nas Figuras 5A e 6A, sem tratamento, amostra B, e possivel observar marcas de laminacao e riscos, possivelmente, causados pelo manuseio. As Figuras 5B e 6B mostram as imagens da superficie da amostra B1, e nas Figuras 5C e 6C tem-se as imagens da superficie da amostra B2; ambas foram submetidas ao tratamento quimico com solucao contendo ions OH- e Cl-. Porem, a amostra B2 foi submetida tambem a um banho de acido nitrico, que aumentou o brilho ou a refletancia do metal [26, 27]. As amostras B1 e B2 apresentaram um bom aspecto visual. Porem, foram observados resquicios das marcas de laminacao devido a ausencia de anions que exercem a funcao de controlar a taxa de ataque, tornando a superficie mais plana devido ao efeito de nucleacao de pites na superficie externa e dissolucao na extremidade dos tuneis de oxidos [26, 27].

As Figuras 5D e 6D mostram a superficie da amostra B3 e nas Figuras 5E e 6E a superficie da amostra B4, onde foi observada a influencia dos ions O[H.sup.-] e S[O.sub.4.sup.-2] sobre a aparencia da superficie das ligas. Estas amostras apresentaram uma superficie menos rugosa e mais homogenea devido a ausencia dos ions [Cl.sup.-]. Isso pode ser devido ao fato do ion cloreto ser responsavel pelo aumento da velocidade de ataque por pites, o que torna a superficie mais rugosa [27].

As Figuras 5F e 5G mostram as fotos e Fig. 6F e 6G, micrografias opticas das amostras B5 e B6, respectivamente. Ambas as amostras foram submetidas ao tratamento quimico com solucao contendo ions [Cl.sup.-], S[O.sub.4.sup.-2] e a amostra B6 foi submetida posteriormente a uma limpeza com solucao de acido nitrico para aumentar a refletancia do metal. Observase que houve formacao de um fino filme branco, dando as pecas aspecto nao agradavel. Nao foram retiradas as marcas de laminacao e os riscos das ligas submetidas a este banho, devido a ausencia de ions OH-, responsaveis pela remocao de impurezas e dissolucao da superficie da liga e de elementos de liga da superficie [2].

Ja nas Figuras 5H e 6H sao mostradas as fotos e micrografias opticas da amostra B7 e nas Figuras 5I e 6I as fotos e micrografias opticas da amostra B8; ambas as amostras foram tratadas com solucao contendo ions O[H.sup.-], [Cl.sup.-1] e S[O.sub.4.sup.-2], porem, a amostra B8 foi submetida a limpeza com solucao de HN[O.sub.3]. As fotos mostram uma superficie homogenea e com bom aspecto superficial, e pelas micrografias opticas notase ausencia das marcas de laminacao, riscos oriundos do manuseio e ausencia da formacao de granulos.

As Figuras 5J e 6J mostram as fotos e micrografias opticas da amostra B9. Observa-se que a adicao de 500 ppm de Si[O.sub.2] na solucao de tratamento quimico melhorou a aparencia da superficie, enquanto as micrografias opticas mostraram o aspecto de barro rachado da superficie e alguns cristais esfericos. Ja, a amostra B10, submetida ao tratamento quimico com adicao de 1000 ppm de Si[O.sub.2] (Figuras 5K e 6K), mostrou uma superficie mais homogenea e com aspecto de anodizado fosco, caracteristicas atribuidas as propriedades abrasivas das nanoparticulas a sua incorporacao a superficie. Com a adicao de 5000 ppm de Si[O.sub.2] ao pre-tratamento quimico, Figuras 5L e 6L, observa-se que nao foi obtida uma superficie com aspecto de anodizado fosco, e o aspecto visual da superficie nao melhorou, devido a incorporacao de nanoparticulas na superficie. O aspecto de "barro rachado" da superficie, observado nas micrografias opticas que mostram cristais, provavelmente sao as nanoparticulas. Essas observacoes definitivamente sugerem nao ser viavel o uso dessa concentracao de nanoparticulas.

4. CONCLUSOES

Este trabalho mostrou ser possivel adaptar o tratamento quimico alcalino a base de NaOH, NaCl, [Na.sub.2]S[O.sub.4] e HN[O.sub.3] para ligas de aluminio da serie 6000, otimizando a combinacao dos reagentes e com adicao de nanoparticulas a solucao de tratamento quimico. Esse tratamento desenvolvido e simples e oferece perspectiva para aplicacao em outras series das ligas de aluminio, resultando em uma superficie homogenea e com aspecto de anodizado fosco.

Na ausencia de nanoparticulas de Si[O.sub.2], o estado da superficie da liga depende do tratamento quimico e a melhora da aparencia foi obtida, principalmente, apos o tratamento B8, solucao com ions O[H.sup.-], [Cl.sup.-], S[O.sub.4.sup.-2] e HN[O.sub.3].

A adicao de 1000 mg [L.sup.-1] de nanoparticulas de Si[O.sub.2], tratamento B10, mostrou a melhor aparencia da superficie e a maior resistencia a corrosao, mesmo apos 240 h de imersao em NaCl, entre todos os tratamentos quimicos estudados neste trabalho.

DOI: http://dx.doi.org/10.17807/orbital.v8i2.796 Article history: Received: 30 September 2015; revised: 07 March 2016; accepted: 29 March 2016. Available online: 31 March 2016.

5. AGRADECIMENTOS

Agradecimentos ao CNPq pelo apoio financeiro e a UNESP pela disponibilidade de equipamentos e espaco fisico para a realizacao do projeto.

6. REFERENCIAS

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Bruna Soares Dos Reis Aranha (a), Cecilio Sadao Fugivara (b), Assis Vicente Benedetti (b), Dilton Goncalves Teixeira (c), Patricia Hatsue Suegama (a) *

(a) Faculdade de Ciencias Exatas e Tecnologia, Universidade Federal da Grande Dourados, Rodovia DouradosItahum, Km 12, CEP 79804-970, Dourados-MS, Brasil.

(b) Instituto de Quimica, UNESP, Araraquara, Rua Prof. Francisco Degni, 55-Quintandinha, CEP 14800-060, Araraquara-SP, Brasil.

(c) Universidade Estadual de Alagoas, Rua Governador Luis Cavalcante, s/n-Alto Cruzeiro, CEP 57312-270, Arapiraca-AL, Brasil.

* Corresponding author. E-mail: patriciasuegama@ufgd.edu.br

Caption: Figura 1. Diagramas de impedancia no plano complexo da liga de aluminio apos os polimentos quimicos: A) B, B) B1, C) B2, D) B3, E) B4, F) B5, G) B6, H) B7 e I) B8.

Caption: Figura 2. Resposta de EIS apos o polimento quimico B9 (500 mg/L SI[O.sub.2]): A) Nyquist, B) log [absolute value of (Z)] vs. log f e C) - [phi] vs. log f obtidos em NaCl 0,1 mol [L.sup.-1]

Caption: Figura 3. Diagramas de EIE apos o polimento B10: A) Nyquist, B) log [absolute value of (Z)] vs. log f e C) - [phi] vs. log f obtidos em NaCl 0,1 mol [L.sup.-1]

Caption: Figura 4. Diagramas de impedancia da liga de aluminio apos o tratamento B11: A) Nyquist, B) log [absolute value of (Z)] vs. log f e C) -[phi] vs. log f obtidos em NaCl 0,1 mol [L.sup.-1].

Caption: Figura 5. Fotos da superficie das amostras obtidas antes e apos os tratamentos quimicos: A) B, B) B1, C) B2, D) B3, E) B4, F) B5, G) B6, H) B7, I) B8, J) B9, K) B10 e L) B11.

Caption: Figura 6. Micrografias opticas das amostras obtidas antes e apos os tratamentos quimicos com magnificacao de 400x: A) B, B) B1, C) B2, D) B3, E) B4, F) B5, G) B6, H) B7, I) B8, J) B9, K) B10 e L) B11.
Tabela 1. Solucoes usadas nos tratamentos quimicos
da liga de aluminio e nomenclatura das amostras.

                                               Com etapa com
                            Sem etapa com       HN[O.sub.3]
                             HN[O.sub.3]    (3,2 mol [L.sup.-1])

NaOH (3 mol [L.sup.-1]) +        B1                  B2
  NaCl (1 mol [L.sup.-1])
NaOH (3 mol [L.sup.-1]) +        B3                  B4
  [Na.sub.2]S[O.sub.4]
  (0,5 mol [L.sup.-1])
NaCl (1 mol [L.sup.-1]) +        B5                  B6
  N2S[O.sub.4] (0,5 mol
  [L.sup.-1])
NaOH (3 mol [L.sup.-1]) +        B7                  B8
  NaCl (1 mol [L.sup.-1])
  + [Na.sub.2]S[O.sub.4]
  (0,5 mol [L.sup.-1])

Tabela 2. Solucoes de tratamentos quimicos efetuados
na liga de aluminio com adicao de nanoparticulas
de Si[O.sub.2] e nomenclatura das amostras.

                             500 ppm SI    1000 ppm      5000 ppm
                             [O.sub.2]    Si[O.sub.2]   Si[O.sub.2]

NaOH (3 mol L-1) + NaCl          B9
  (1 mol L-1) + [Na.sub.2]
  [O.sub.4] (0,5 mol L-1)
NaOH (3 mol L-1) + NaCl                       B10
  (1 mol L-1) + [Na.sub.2]
  [O.sub.4] (0,5 mol L-1)
NaOH (3 mol L-1) + NaCl                                     B11
  (1 mol L-1) + [Na.sub.2]
  [O.sub.4] (0,5 mol L-1)
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Title Annotation:Full Paper
Author:Aranha, Bruna Soares Dos Reis; Fugivara, Cecilio Sadao; Benedetti, Assis Vicente; Teixeira, Dilton G
Publication:Orbital: The Electronic Journal of Chemistry
Article Type:Report
Date:Jan 1, 2016
Words:4804
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